ELECTROSTATIC FLUIDIZED BATH WITH SEMICONDUCTOR ELECTRODE

摘要

L'invention concerne un bain fluidisé électrostatique pour le revêtement de substrats à l'aide de poudres qui se chargent électrostatiquement au contact d'une ou plusieurs électrodes semi-conductrices plongées dans la cuve de fluidisation. Les électrodes semi-conductrices présentent une résistivité volumique comprise entre 102 et 108 .OMEGA..m, et de préférence comprise entre 104 et 106 .OMEGA..m. Le revêtement des substrats dans de tels bains est particulièrement régulier et uniforme, quelle que soit la géométrie du substrat à revêtir et convient pour des substrats de grande dimension.