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Patente de Invenção: <B>"PLACAS LITOGRáFICAS SEM áGUA"<D>. é descrito um método de preparação de uma placa litográfica sem água, o qual compreende um suporte tendo uma superfície oleofílica estando revestida sobre a superfície oleofílica uma mistura que compreende, como um dos componentes, um material de liberação repelente à água e repelente à tinta ou uma mistura de tais materiais, e como o outro componente essencial uma composição fotossensível insolúvel em água, a qual é tornada aquosa através da exposição à luz, ou uma composição insolúvel em água, a qual é tornada aquosa através da exposição ao calor, a proporção do material de liberação para a composição insolúvel em água na mistura sendo de 20 a 80 do material de liberação a 80 - 20 da composição insolúvel em água em peso, o tratamento de formação de imagem da mistura sobre o suporte, a revelação da mistura com uma solução alcalina aquosa, para tornar as áreas tratadas da composição insolúvel em água solúveis em água e para remover essa composição junto com o material de liberação e, dessa forma, a exposição da superfície oleofílica ao suporte nas áreas da placa tratadas e a manutenção do material de liberação e da composição insolúvel em água nas áreas não-tratadas da placa, assim, resultando em uma placa litografíca sem água de operação negativa. |
