发明名称 Disposição de circuito e processo para a alimentação de corrente para instalações de galvanização ou instalações de eletroerosão.
摘要 Patente de Invenção:<B>"DISPOSIçãO DE CIRCUITO E PROCESSO PARA ALIMENTAçãO DE CORRENTE PARA INSTALAçõES DE GALVANIZAçãO OU INSTALAçõES DE ELETROEROSãO"<D>. A disposição de circuito e o processo de acordo com a invenção para a alimentação de corrente em forma de pulsos para células eletrolíticas são empregadas em instalações galvanotécnicas. Para a alimentação de corrente de cada célula eletrolítica são previstos dois galvano-retificadores (5,32) e um comutador (12) respectivamente com dois interruptores individuais (23,24), sendo que cada uma saída dos retificadores está ligada, através de uma primeira linha (33), com uma conexão da célula eletrolítica, as outras respectivas saídas dos retificadores estão ligadas, através de cada uma segunda linha (34,35), com as entradas dos comutadores, e a saída (18) do comutador está ligada com a outra conexão da célula eletrolítica, sendo que, além disso, entre a primeira linha e as segundas linhas acha-se conectado respectivamente um condensador (20,21). Geram-se seq³ências periódicas de pulsos através de abertura e fechamento alternados dos interruptores individuais.
申请公布号 BR9807269(A) 申请公布日期 2000.05.23
申请号 BR1998PI07269 申请日期 1998.02.02
申请人 ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH 发明人 MANFRED MAURER
分类号 C25D5/18;C25D21/00;C25D21/12;C25F7/00;H05K3/24;(IPC1-7):C25F7/00 主分类号 C25D5/18
代理机构 代理人
主权项
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