发明名称 液晶显示器及其制造方法
摘要 本发明系有关一种使用反射型液晶灯泡之投射型液晶显示器及其制造方法,其目的系在提供一种可提高次图素之开口率,同时可提高显示亮度之液晶显示器及其制造方法。就构成上而言,本发明系在半导体基板l上形成光吸收层26,在光吸收层26上介以绝缘膜28形成复数个光反射膜32,再全面地形成绝缘膜36,并在绝缘膜36上全面地涂布正型光致抗蚀剂形成抗蚀层64,将该抗蚀层64由上面曝光显像,藉此,以自我对准之方式只在复数个光反射膜32间之区域上部留下抗蚀层64而形成光罩,利用该光罩将绝缘膜36蚀刻,在复数个光反射膜32间上形成柱状之间隔具34。
申请公布号 TW390968 申请公布日期 2000.05.21
申请号 TW084103167 申请日期 1995.03.31
申请人 万国商业机器公司 发明人 宇田满;筱原昌己;西田卫
分类号 G02F1/13 主分类号 G02F1/13
代理机构 代理人 陈长文 台北巿敦化北路二○一号七楼
主权项 1.一种液晶显示器,具有:可反射入射光且具有显示电极功能之复数个光反射膜,与该光反射膜之光入射侧对向设置之对向电极,封塞于该光反射膜与对向电极之间之液晶层,以维持一定之单元间距的方式在该液晶层中以柱状形成之间隔具,以及至少形成于该复数个光反射膜间的下层之光吸收层;其特征系在:该间隔具,系形成于该光反射膜间上,并未形成于该光反射膜上者;及该光吸收层,系由100A厚之钛、1000A厚之铝,500A厚之氮化钛依序层积而形成者。2.一种液晶显示器之制造方法,包含下列之步骤:在一半导体基板上形成光吸收层;在该光吸收层上形成第一绝缘膜;在该第一绝缘膜上形成复数个光反射膜,其中光反射膜的反射率明显大于该光吸收层之反射率;在该光反射膜上形成第二绝缘膜;在该第二绝缘膜上全面涂布正型光致抗蚀剂而形成抗蚀层;藉由将该抗蚀层由上方用光线进行曝光,且与该光反射膜重叠之该抗蚀层部分系对入射光及反射光曝光,而未与该光反射膜重叠之该抗蚀层部分,则实质上仅对入射光曝光;对该曝光之抗蚀层显像以形成一自我对准光罩,其中只在该复数个光反射膜间之区域留下该抗蚀层;及一利用该光罩,将该第二绝缘膜蚀刻,而在该复数个光反射膜间上形成柱状之间隔具之步骤者。3.如申请专利范围第2项之液晶显示器之制造方法,其特征在于该待形成间隔具之位置系在该抗蚀层曝光前先予以遮罩。4.如申请专利范围第2项之液晶显示器之制造方法,更包含下列之步骤:将由该间隔具所支持之形成有对向电极之对向基板贴合;及在由该间隔具所形成之单元间隙中封塞液晶。5.如申请专利范围第2项之液晶显示器之制造方法,更包含下列之步骤:分别在该光吸收层下形成复数个开关元件及一覆盖该开关元件之一第三绝缘膜于半导体基板上;形成复数个接触柱,该接触柱系分别与该光吸收层电绝缘及与该复数个开关元件电连接;将由该间隔具所支持之形成有对向电极之对向基板贴合;及在由该间隔具所形成之单元间隙中封塞液晶;及其中该复数个光反射膜系分别与该复数个接触柱电连接及对应于该复数个开关元件。6.如申请专利范围第2,3,4或5项之液晶显示器之制造方法,其中该光吸收层,系由100A厚之钛、1000A厚之铝,500A厚之氮化钛依序层积而形成者。7.如申请专利范围第5项之液晶显示器之制造方法,其特征在于在将该抗蚀层曝光时,系将待形成该间隔具之位置遮罩而进行曝光者。图式简单说明:第一图系本发明一实施例之液晶显示器之构造说明图。第二图系本发明一实施例之液晶显示器之构造说明图。第三图系本发明一实施例之液晶显示器之构造说明图。第四图系本发明一实施例之液晶显示器之制造方法说明图。第五图像本发明一实施例之液晶显示器之制造方法说明图。第六图系本发明一实施例之液晶显示器之制造方法说明图。第七图系本发明一实施例之液晶显示器之制造方法说明图。第八图系本发明一实施例之液晶显示器之制造方法说明图。第九图系本发明其他实施例之液晶显示器之制造方法说明图。第十图系习用液晶显示器之构造说明图。第十一图系习用液晶显示器之制造方法说明图。
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