首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 Linear Poliergerät und Wafer Planarisierungsverfahren
摘要
申请公布号 DE69512971(T2) 申请公布日期 2000.05.18
申请号 DE19956012971T 申请日期 1995.07.31
申请人 ONTRAK SYSTEMS INC., MILPITAS 发明人 HOMAYOUN, TALIEH;WELDON, DAVID EDWIN
分类号 B24B21/00;B24B7/22;B24B21/04;B24B35/00;B24B37/04;B24B41/06;B24B53/007;H01L21/304;(IPC1-7):B24B37/04 主分类号 B24B21/00
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com