| 摘要 |
<p>La présente invention concerne un appareil et un procédé à ouvertures linéaires de dépôt destiné au revêtement de substrats à l'aide de matières de revêtement en phase vapeur ou sous forme sublimée . L'appareil et le procédé sont particulièrement adaptés pour produire des couches minces flexibles dont le revêtement à interférence optique présente une très haute uniformité d'épaisseur de surface et qui est sensiblement exempt de défauts dus à l'éjection particulaire d'une matière source. L'appareil comprend un caisson source contenant une matière source, un élément chauffant permettant de sublimer ou d'évaporer ladite matière source, et une cheminée pour diriger vapeur de la matière source de la boîte source sur un substrat. Un écran limitateur de flux percé d'une pluralité de trous est positionné entre la matière source et le substrat afin de confiner et diriger le flux de vapeur, et un écran flottant optionnel est positionné à la surface de la matière source pour limiter davantage le jet de vapeur, éliminant ainsi sensiblement les projections intempestives de la matière source.</p> |
