| 发明名称 |
A method for forming a self aligned contact in a semiconductor device |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
GB2333179(B) |
申请公布日期 |
2000.05.17 |
| 申请号 |
GB19980025187 |
申请日期 |
1998.11.17 |
| 申请人 |
* SAMSUNG ELECTRONICS CO. LTD. |
发明人 |
CHANG-HYUN * CHO;HONG-SIK * JEONG;JAE-GOO * LEE;CHANG-JIN * KANG;SANG-SUP * JEONG;CHUL * JUNG;CHAN-OUK * JUNG |
| 分类号 |
H01L21/768;H01L21/311;H01L21/60;H01L21/8242;H01L27/108;(IPC1-7):H01L21/824 |
主分类号 |
H01L21/768 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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