摘要 |
"GONIÈMETRO <SYM>:<237> E TéCNICA ASSOCIADA PARA ANáLISE DE CRISTAIS POR DIFRAçãO DE RAIOS X". Dispositivo goniómetro <SYM>:<237> e técnica de alta resolução associada, para análise, estudo e caracterização das condições de difração múltipla, de cristais semicondutores e monocristais em geral, através de difração de Raios X, sendo um conjunto de semi-arcos ortogonais no suporte da amostra, do goniómetro de um difratómetro, para alinhamento do vetor de difração da mesma, em relação à direção do eixo de rotação <237>, estando estes dois semi-arcos de rotação dispostos ortogonalmente, (sendo os semi-arcos X' e <237>'), colocando o vetor de difração <B>H<D> fique paralelo simultaneamente com o plano de incidência (p.i.), introduzindo opcionalmente um conjunto de espelhos focalizantes de Raios X compactando a óptica da goniometria <SYM>:<237>; e técnica tridimensional de alta resolução das condições de difração múltipla, com ou sem compactação de óptica, para análise de cristais semicondutores e monocristais em geral, por difração de Raios X, chamada de goniometria <SYM>:<237>, não convencional de varredura de Renninger, ou varredura <237> e mapeamento <SYM>:<237>.
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