发明名称 |
DISPOSITIVO DE GASIFICACION. |
摘要 |
UN DISPOSITIVO DE GASIFICACION (1) PARA EL AGUA (W) CONDUCIDA CON HIDROGENO (H 2 ) U OXIGENO (O 2 ) A UN SISTEMA PARCIAL (2) DE UNA INSTALACION TECNICA DEBE ESTAR CONFIGURADO DE TAL MODO QUE SE GARANTICE CON UN MENOR GASTO DE MANTENIMIENTO Y DE UNA FORMA ESPECIALMENTE SENCILLA Y SEGURA QUE HAYA UN AJUSTE RAPIDO Y EXACTO DEL CONTENIDO DE HIDROGENO U OXIGENO DEL AGUA (W) CONDUCIDA AL SISTEMA PARCIAL (2). A TAL FIN, HAY CONECTADA EN EL SISTEMA PARCIAL (2) UNA UNIDAD DE ELECTROLISIS (3) QUE SIRVE PARA DESCOMPONER UNA CANTIDAD PARCIAL DEL AGUA AHI CONDUCIDA (W) EN HIDROGENO (H 2 ) Y OXIGENO (O 2 ).
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申请公布号 |
ES2143851(T3) |
申请公布日期 |
2000.05.16 |
申请号 |
ES19970908249T |
申请日期 |
1997.03.17 |
申请人 |
SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT |
发明人 |
PUTHAWALA, ANWER |
分类号 |
C02F1/46;B01F3/04;C02F1/42;C02F1/461;C02F1/467;C02F1/72;(IPC1-7):C02F1/461 |
主分类号 |
C02F1/46 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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