发明名称 DISPOSITIVO DE GASIFICACION.
摘要 UN DISPOSITIVO DE GASIFICACION (1) PARA EL AGUA (W) CONDUCIDA CON HIDROGENO (H 2 ) U OXIGENO (O 2 ) A UN SISTEMA PARCIAL (2) DE UNA INSTALACION TECNICA DEBE ESTAR CONFIGURADO DE TAL MODO QUE SE GARANTICE CON UN MENOR GASTO DE MANTENIMIENTO Y DE UNA FORMA ESPECIALMENTE SENCILLA Y SEGURA QUE HAYA UN AJUSTE RAPIDO Y EXACTO DEL CONTENIDO DE HIDROGENO U OXIGENO DEL AGUA (W) CONDUCIDA AL SISTEMA PARCIAL (2). A TAL FIN, HAY CONECTADA EN EL SISTEMA PARCIAL (2) UNA UNIDAD DE ELECTROLISIS (3) QUE SIRVE PARA DESCOMPONER UNA CANTIDAD PARCIAL DEL AGUA AHI CONDUCIDA (W) EN HIDROGENO (H 2 ) Y OXIGENO (O 2 ).
申请公布号 ES2143851(T3) 申请公布日期 2000.05.16
申请号 ES19970908249T 申请日期 1997.03.17
申请人 SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT 发明人 PUTHAWALA, ANWER
分类号 C02F1/46;B01F3/04;C02F1/42;C02F1/461;C02F1/467;C02F1/72;(IPC1-7):C02F1/461 主分类号 C02F1/46
代理机构 代理人
主权项
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