发明名称 A VASPEL INSERT RING OF PROCESS CHAMBER
摘要
申请公布号 KR200181528(Y1) 申请公布日期 2000.05.15
申请号 KR19990029111U 申请日期 1999.12.22
申请人 ANAM SEMICONDUCTOR.,LTD. 发明人 JANG, HYUN JOO
分类号 H01L21/306;(IPC1-7):H01L21/306 主分类号 H01L21/306
代理机构 代理人
主权项
地址