| 摘要 |
用于半导体微影制程之显影液供应系统被揭示,其中具有其所含之气体被去除的显影液被供应,本发明的显影液供应系统包括:复数个供应槽和具有复数个第一连接管的显影液供应管线,每一个第一连接管被连接到该供应槽、被连接到即将被汇集成为一个通道的第二连接管、以及复数个从该第二连接管所分出之第三连接管,该系统也包括:被连接到该显影液供应管线之第三连接管而藉以溅镀该显影液于每一个被置于制程室之中的晶圆上之管嘴、被装设于该显影液供应管线之第二连接管中而藉以去除在该显影液中所含的气体之气体去除装置、以及关闭阀等,每一个关闭阀被装设于该第三连接管中而藉以开启及关闭通道,使得该显影液能够经过该第三连接管而只被选择性地供应入一个制程室之中。 |
| 主权项 |
1.一种半导体微影制程用显影液供应系统,包括:复数个供应槽,用以储存特定量的显影液;一个具有复数个第一连接管之显影液供应管线,每一个第一连接管被连接到该供应槽、一个第二连接管被连接到即将被滙集成为一个通道的第一连接管、以及复数个从该第二连接管所分出之第三连接管;管嘴等,每一个管嘴被连接到该显影液供应管线的第三连接管而藉以溅镀该显影液于晶圆之上,每一个晶圆被置于制程室之中;气体去除装置被装设于该显影液供应管线之该第二连接管中而藉以去除在沿着该管的内部流动之该显影液中所含的气体;及关闭阀,每一个关闭阀被装设于该第三连接管中而藉以开启与关闭该管之通道,使得该显影液能够经过该第三连接管仅被选择性地供应入一个制程室中。2.如申请专利范围第1项的系统,其中如果该关闭阀的其中一个被开启,则另一个关闭阀自动被关闭。3.如申请专利范围第1项的系统,再包括:复数个控制阀被装设于该显影液供应管线之该第一连接管中而藉以选择地开启与关闭该管之通道。4.如申请专利范围第3项的系统,其中该控制阀被控制仅一个位在具有最大量的显影液之侧中的控制阀能够被开启。5.如申请专利范围第1项的系统,再包括:用以去除在沿着该显影液供应管线而流动之该显影液中所含的外来物质之过滤装置。6.如申请专利范围第5项的系统,其中该过滤装置被装设于该第二连接管中在该气体去除装置之前。7.如申请专利范围第5项的系统,其中该过滤装置被装设于该第二连接管中在该气体去除装置之后。8.如申请专利范围第5项的系统,其中该过滤装置被装设于系各自位在介于该气体去除装置与该关闭阀之间的该第三连接管之中。9.如申请专利范围第1项的系统,再包括:用以测定沿着该显影液供应管线而流动的该显影液之量的刻度计量器。10.如申请专利范围第9项的系统,其中该刻度计量器被装设于该第二连接管中在该气体去除装置之前。11.如申请专利范围第9项的系统,其中该刻度计量器被装设于该第二连接管中在该气体去除装置之后。12.如申请专利范围第9项的系统,其中该过滤装置被装设于系各自位在介于该气体去除装置与该关闭阀之间的该第三连接管之中。图式简单说明:第一图系显示用于半导体微影制程之传统的显影液供应系统之示意图;第二图系显示被装设于第一图之显影液供应系统之显影液供应管线中的气体去除装置之部分的截断图;第三图系显示供应位于第二图之气体去除装置中的毛细管之被放大的部分截断图;及第四图系根据本发明之较佳实施例的半导体微影制程用显影液供应系统之示意图。 |
