发明名称 处理程序槽中物件之装置
摘要 本发明系关于一处理程序槽(1)中物件之装置,其至少有一处理流体流入及/或流出,藉至少一流体均布装置(4,8),当处理流体流入及/或流出此装置,可在整个程序槽(l)或是处理室之截面获致均匀之流体分布及压力分布。此流体均布装置(4,8)最好至少有一多孔棒(4),至少有一多孔板(8),至少有一毛细管板(8)及/或至少有一单层或多层纤维织物(8)。(图四)
申请公布号 TW389739 申请公布日期 2000.05.11
申请号 TW085112664 申请日期 1996.10.16
申请人 史悌克显微科技有限公司 发明人 约阿希姆.波格尼
分类号 B65G51/01 主分类号 B65G51/01
代理机构 代理人 江安国 台北巿复兴北路二八八号八楼之一
主权项 1.一种处理程序槽(1)中物件之装置,其至少有一处理流体流入及/或流出至少一个流体均布装置(4.8),其特征为,流体均布装置(4.8)至少有一多孔空心棒(4),至少有一多孔板(8),至少有一毛细管板(8),及/或至少有一单层或多层之纤维织物(8)。2.根据申请专利范围第1项所述之装置,其特征为,流体均布装置之设置是与流动方向垂直。3.根据申请专利范围第1项所述之装置,其特征为,流体均布装置(8.4)是被焊接在程序槽(1)内。4.根据申请专利范围第1项所述之装置,其特征为,纤维织物(8)是被焊接在框架(15)内。5.根据申请专利范围第3项所述之装置,其特征为,框架(15)与纤维织物是由同一材料组成。6.根据申请专利范围第4项所述之装置,其特征为,框架(15)被设置在程序槽(1)之部件(16.17)间。7.根据申请专利范围第4项所述之装置,其特征为,框架(15)在程序槽(1)内部与程序槽侧壁密接。8.根据申请专利范围第1项所述之装置,其特征为,流体均布装置是被螺丝锁紧或被夹紧在程序槽(1)中。9.根据申请专利范围第1项所述之装置,其特征为,在流体均布装置(4.8)及程序槽(1)之壁面间至少设有一密封(19.20)。10.根据申请专利范围第1项所述之装置,其特征为,处理流体从程序槽(1)底部(3)输入时,流体均布装置(4.8)主要是被设置在底部附近之平行位置(第一图及第三图)。11.根据申请专利范围第1项所述之装置,其特征为,处理流体经程序槽(1)顶盖(9)输入时,流体均布装置(4.8)主要是被设置在顶盖附近之平行于顶盖(9)盖壁之位置(第五图及第六图)。12.根据申请专利范围第1项所述之装置,其特征为,处理流体从程序槽(1)底部(3)输入时,设有至少一多孔管(4),及在其上至少有一多孔板(8),至少有一毛细管板(8)及/或至少有一纤维织物(8)(第四图)。13.根据申请专利范围第1项所述之装置,其特征为,处理流体经程序槽(1)顶盖(9)输入时,设有至少一多孔空心棒(4),及在其下至少有一多孔板(8),至少有一毛细管板(8)及/或至少有一纤维织物(8)(第六图)。14.根据申请专利范围第1项所述之装置,其特征为,处理流体流出程序槽(1)之出口(14)设有至少一多孔板(8),至少一毛细管板(8)及/或至少一纤维织物(8)。15.根据申请专利范围第14项所述之装置,其特征为,在具溢流之程序槽(1),在程序槽(1)之开放面(14)至少设有一多孔板(8),至少一毛细管板(8)及/或至少一纤维织物(8)(第七图)。16.根据申请专利范围第15项所述之装置,其特征为,流体均布装置(8)是可拆卸。17.根据申请专利范围第1项所述之装置,其特征为,程序槽(1)是刻蚀槽、清洁槽、冲洗槽或乾燥槽。18.根据申请专利范围第1项所述之装置,其特征为,程序槽(1)用于化学处理,最好是物件表面之化学处理。19.根据申请专利范围第1项所述之装置,其特征为,程序槽(1)是复式程序槽。图式简单说明:第一图显示一具多孔空心棒形式之流体均布装置的程序槽之示意图,第二图显示另一多孔空心棒实施例之示意图,第三图显示一具多孔板之流体均布装置的程序槽之示意图,第四图显示一程序槽之示意图,其二个流体均布装置,一具单个或多个多孔管形式,另一则具多孔板形式,第五图显示一实施例之示意图,其一在流体槽底部之流体均布装置具多孔管形式,另一在顶盖内之流体均布装置则具多孔板形式,第六图显示一实施例之示意图,其中有二平行设置在顶盖内之多孔管及多孔板,第七图显示一具流体满溢程序槽实施例之示意图,其在流体输入底板上有一多孔管及一多孔板,在上部开放面上另设有一多孔板,及第八图为一实施例之示意图,其显示如何将多孔板、毛细管板或纤维织物等装置在框架内或在程序槽上之固定。
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