| 主权项 |
1.一种适于整体结合至一导管内表面之放注装置, 包括一细长壳体,一壳体入口适于与该导管之内部 连通;一壳体出口适于与一导管出口连通;一细长 、限制流量之流路成形在该壳体内;一流路入口与 该壳体入口连通;一流路出口与该壳体出口连通; 一弹性可挠曲膜片安装在该壳体内;该壳体系闭合 盒状且由一细长收纳构件及一对应之细长盖板构 件构成;及沿着该等构件之细长凸缘部形成之凸起 与凹槽交互啮合装置,且实质横向至该等构件纵轴 ,使一构件之凸起装置适合于在另一构件之对应凹 槽装置内形成一闭合压力装配。2.如申请专利范 围第1项之放注装置,其中配有数列该类交互啮合 装置。3.如申请专利范围第2项之放注装置,其中每 一列包括连续之凸起与凹槽交互啮合装置。4.如 申请专利范围第3项之放注装置,其中该凸起装置 及对应凹槽装置系概呈鸠尾形状。5.如申请专利 范围第3项之放注装置,其中该或每一凸起交互啮 合装置系位于邻近该构件之凸缘部之最窄位置,而 由该位置朝另一构件之凸缘部向外延伸并加宽,同 时该或每一凹槽交互啮合装置系位于邻近该构件 之凸缘部最宽之位置,在该处其形成朝向另一构件 之凸缘部收窄。6.如申请专利范围第5项之放注装 置,其中每一凹槽交互啮合装置形成邻接至一凹槽 之弹性凸起交互啮合装置。7.如申请专利范围第6 项之放注装置,其中在该壳体内形成一凹槽(recess), 且其具有一凹槽出口形成在一凹槽底座内,该凹槽 具有一凸缘区域实质地大于该凹槽出口区域且和 流路宽度比较系扩大尺寸(extended dimensions);膜片之 一第一表面适合于暴露至液体流入压力;该膜片之 一第二且相对表面系并列(juxtaposed)至该凸缘以便 在该流入压力下压紧该凸缘;且以便限定该凹口一 出口控制室;该配置当该液体流入压力超过该出口 控制室液体压力一预定量时,使得该膜片向该凹槽 出口弯曲,以便限定一凹槽出口一限制之流出路径 。8.如申请专利范围第7项之放注装置,其中在至少 该等构件之一之一内表面形成一细长沟槽,该沟槽 配合该膜片以定义该流量限制流路。9.如申请专 利范围第8项之放注装置,其中在两该等构件内该 等表面内形成细长沟槽,该等细长沟槽配合该膜片 个别地定义分流量限制流路,该限制流路经由形成 在该膜片内之连通孔连通。10.如申请专利范围第9 项之放注装置,其中每一沟槽系以一对相对引导列 之流量限制档板形成。11.如申请专利范围第10项 之放注装置,当依附至申请专利范围第7项时,其中 该流路入口系和该等沟槽之一第一沟槽结合,该流 路出口系和该等沟槽之一第二沟槽结合,该壳体入 口形成在该等之一第一构件内,该壳体出口和该凹 槽系形成在该等构件之一第二构件内,且该连通孔 系形成在该膜片内邻近该第一沟槽之一下游端及 该第二沟槽之上游端。12.如申请专利范围第11项 之放注装置,其中该壳体入口包含一入口井凸出至 该壳体内且具有一外围井凸缘,该膜片垂直地密封 偏压至该凸缘,该配置使得承受在该膜片上之一预 定最小液体流入压力有效地将该膜片自其和井凸 缘之密封啮合移位。13.如申请专利范围第12项之 放注装置,其中在邻近至少该等构件之一构件之一 细长边之一外表面上形成一细长流入槽道和该壳 体入口连通,并适合于暴露至导管之内表面并具有 一列位于沿着槽道长度之过滤档板。14.如申请专 利范围第13项之放注装置,其中一对该等细长流入 槽道系个别地形成在邻近该一构件之相对细长边 。15.如申请专利范围第14项之放注装置,其中该或 每一细长流入槽道系形成在收纳构件之外表面内 。16.如申请专利范围第15项之放注装置,当依附在 申请专利范围第1项上时,其中该等流入槽道全部 流出至该壳体入口内。17.如申请专利范围第16项 之放注装置,其中该等流入槽道系局部地覆盖。18. 一种滴流灌溉系统,包括一灌溉导管及一连续间隔 之如申请专利范围第1项之放注装置,该放注装置 系在该等构件之交互啮合(interengaged)凸缘部结合 至该导管之一内表面。19.一种放注装置,适于整体 结合至一导管内表面,包括一细长壳体,一壳体入 口适于与该导管之一内部连通;一壳体出口适于与 一导管出口连通;该壳体包含一收纳构件及一盖板 构件,其适于耦合一起以形成一似盒(boxlike)之结构 ;延长之沟槽(grooves),其个别形成于该等构件之内 表面;一弹性可挠曲膜片,安装在该壳体内,且覆盖 该等沟槽,使得因此界定复数个分量限制流量之流 路,其经由一形成于该膜片中之连通孔而连通,该 等分量流路之一的一流路入口系与该壳体入口连 通;该等分量流路之另一流路的一流路出口系与该 壳体出口连通。20.如申请专利范围第19项之放注 装置,其中每个沟槽系以一对相对引导列之流量限 制档板形成。21.如申请专利范围第19或20项之放注 装置,其中在该壳体内形成一凹槽,其具有一凹槽 出口形成于一凹槽底座内,该凹槽具有一凸缘区域 实质地大于该凹槽出口区域且和流路宽度比较系 扩大尺寸;该膜片之一第一表面系适合于暴露至液 体流入压力;该膜片之一第二且相对表面系并列至 该凸缘以便在该流入压力下压紧该凸缘;且使得以 该凹口界定一出口控制室;该配置系使得当该液体 流入压力超过该出口控制室液体压力一预定量时, 该膜片向该凹槽出口弯曲,使得以该凹口界定一限 制之流出路径。22.如申请专利范围第19项之放注 装置,其中该壳体入口包括一入口井(inlet well)突起 入该壳体内并具有一周围井凸缘,该膜片系并列于 其上。23.如申请专利范围第22项之放注装置,其中 该膜片系垂直地密封偏压至该凸缘,该配置使得承 受在该膜片上之一预定最小液体流入压力有效地 将该膜片自其和井凸缘之密封啮合而移位。24.如 申请专利范围第19项之放注装置,其中该等延长之 沟槽系形成于该等构件之一或两者之内表面上,该 等沟槽系形成于各相互连通内表面上,使得以该膜 片界定一分量流路。25.一种适于整体结合至一导 管内表面之放注装置,包括一壳体;一部分覆盖之 细长流入通道,其形成于该壳体之一外表面,适于 暴露至该导管之内部并与一壳体入口连通,其适于 与该导管之一内部连通;一壳体出口适于与一导管 出口连通;一与该壳体出口连通之流路出口;以及 一沿着该流入通道长度配置之过滤器档板阵列。 26.如申请专利范围第25项之放注装置,其中该等流 入通道系形成于该外表面之间隔分离位置上,且其 中一连通通道系相对于该流入通道而横向形成于 该外表面中,且其中形成该壳体入口,因此于该流 入通道之水流流入该壳体入口。27.如申请专利范 围第25或26项之放注装置,其中该部分覆盖之流入 通道系由一下切铸模程序(undercut molding process)所 形成。28.如申请专利范围第25项之放注装置,其中 该壳体入口包括一入口井突起入该壳体内并具有 一周围井凸缘,该膜片系并列于其上。29.如申请专 利范围第28项之放注装置,其中该膜片垂直地密封 偏压至该周围井凸缘,该配置使得承受在该膜片上 之一预定最小液体流入压力有效地将该膜片自其 和井凸缘之密封啮合而移位。30.一种适于整体结 合至一导管内表面之放注装置,包括一细长壳体, 一壳体入口适于与该导管之一内部连通;一壳体出 口适于与一导管出口连通;一细长、限制流量之流 路形成于该壳体内;一流路入口与该壳体入口连通 ;一流路出口与该壳体出口连通;一弹性可挠曲膜 片安装在该壳体内,使得将至少该流路之一部份覆 盖及交互啮合;该壳体系闭合盒状且包含一细长收 纳构件及一对应之细长盖板构件;及沿着该等构件 之细长凸缘部形成之凸起与凹槽交互啮合装置,且 实质横向于该等构件纵轴,使一构件之凸起装置适 合于在另一构件之对应凹槽装置内形成一闭合压 力装备。31.如申请专利范围第30项之放注装置,其 中该壳体入口包括一入口井突起入该壳体内并具 有一周围井凸缘,该膜片系并列于其上。32.如申请 专利范围第31项之放注装置,其中该膜片垂直地密 封偏压至该周围井凸缘,该配置使得承受在该膜片 上之一预定最小液体流入压力有效地将该膜片自 其和井凸缘之密封啮合而移位。图式简单说明: 第一图是根据本发明之一放注装置具体实施例之 立体透视图; 第二图是根据本发明之一放注装置具体实施例之 立体透视图,系以和第一图所示视图相反视觉方式 显示; 第三图是根据本发明组合之放注装置透视图; 第四图是根据本发明放注装置之透视图(和第三图 所示视图相反),局部剖开; 第五图是一滴流灌溉系统结合根据本发明之放注 装置之纵剖面视图,在一初始操作阶段; 第六图是一滴流灌溉系统结合根据本发明之放注 装置之纵剖面视图,在一后续操作阶段; 第七图是第五图所示滴流灌溉系统横剖面视图,依 VII-VII线剖开。 |
