发明名称 |
SEMICONDUCTOR STRUCTURE FOR SEMICONDUCTOR COMPONENTS |
摘要 |
Eine Halbleiterstruktur zur Herstellung von Halbleiterbauelementen, beispielsweise PNP-Transistoren, weist eine wannenförmige n-dotierte Zone (5) in einem p-dotierten Halbleitermaterial (1, 2) auf, die eine bis an die Oberfläche des Halbleitermaterials reichende p-dotierte Innenzone (6) umschliesst. Die wannenförmige n-dotierte Zone (5) hat ein Dotierung, die sehr viel stärker ist als die Dotierung der p-dotierten Innenzone (6). Die Halbleiterstruktur ist technologisch einfach zu fertigen und kompatibel zu modernen CMOS-Prozessen. Sie bildet eine Ausgangsstruktur insbesondere für einen vertikalen PNP-Transistor mit verbesserten elektrischen Eigenschaften, beispielsweise Stromverstärkung und Frequenzverhalten.
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申请公布号 |
WO0019535(B1) |
申请公布日期 |
2000.05.11 |
申请号 |
WO1999EP07226 |
申请日期 |
1999.09.29 |
申请人 |
GRUETZEDIEK, URSULA;SCHEERER, JUTTA;GRUETZEDIEK, HARTMUT;SCHEERER, JOACHIM |
发明人 |
GRUETZEDIEK, HARTMUT;SCHEERER, JOACHIM |
分类号 |
H01L21/331;H01L21/337;H01L21/8222;H01L21/8226;H01L27/02;H01L27/082;H01L29/732;H01L29/808;H01L31/10;(IPC1-7):H01L27/02;H01L21/822 |
主分类号 |
H01L21/331 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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