发明名称 SEMICONDUCTOR STRUCTURE FOR SEMICONDUCTOR COMPONENTS
摘要 Eine Halbleiterstruktur zur Herstellung von Halbleiterbauelementen, beispielsweise PNP-Transistoren, weist eine wannenförmige n-dotierte Zone (5) in einem p-dotierten Halbleitermaterial (1, 2) auf, die eine bis an die Oberfläche des Halbleitermaterials reichende p-dotierte Innenzone (6) umschliesst. Die wannenförmige n-dotierte Zone (5) hat ein Dotierung, die sehr viel stärker ist als die Dotierung der p-dotierten Innenzone (6). Die Halbleiterstruktur ist technologisch einfach zu fertigen und kompatibel zu modernen CMOS-Prozessen. Sie bildet eine Ausgangsstruktur insbesondere für einen vertikalen PNP-Transistor mit verbesserten elektrischen Eigenschaften, beispielsweise Stromverstärkung und Frequenzverhalten.
申请公布号 WO0019535(B1) 申请公布日期 2000.05.11
申请号 WO1999EP07226 申请日期 1999.09.29
申请人 GRUETZEDIEK, URSULA;SCHEERER, JUTTA;GRUETZEDIEK, HARTMUT;SCHEERER, JOACHIM 发明人 GRUETZEDIEK, HARTMUT;SCHEERER, JOACHIM
分类号 H01L21/331;H01L21/337;H01L21/8222;H01L21/8226;H01L27/02;H01L27/082;H01L29/732;H01L29/808;H01L31/10;(IPC1-7):H01L27/02;H01L21/822 主分类号 H01L21/331
代理机构 代理人
主权项
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