| 发明名称 |
Reduction of pattern noise in scanning lithographic system illuminators |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0844530(A3) |
申请公布日期 |
2000.05.03 |
| 申请号 |
EP19970119174 |
申请日期 |
1997.11.03 |
| 申请人 |
SVG LITHOGRAPHY SYSTEMS, INC. |
发明人 |
MCCULLOUGH, ANDREW W. |
| 分类号 |
G03F7/20;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/20 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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