发明名称 含有铜菁系化合物之记录液
摘要 本发明系有关含有以下式(I)CC(I)(式内,PC示铜菁骨干,B示以C2~C4之伸烷基或羧基或磺酸基取代亦可的伸苯基,R示低级烷基或低级烷氧基低级烷基;M示氢原子、硷金属或硷土类金属;__示1~3, m示0~2,n示l或2;惟__+m+n为2~4)表示的铜菁系化合物之记录液。本发明之记录液,为可给与高浓度、鲜明色调之影像,且其影像之保存性,尤指耐水性优越的影像之记录液。
申请公布号 TW388769 申请公布日期 2000.05.01
申请号 TW086107390 申请日期 1997.05.30
申请人 化药股份有限公司 发明人 小岛正好;浦典子
分类号 C07D251/00;C09D11/00 主分类号 C07D251/00
代理机构 代理人 陈灿晖 台北巿城中区武昌街一段六十四号八楼;洪武雄 台北巿城中区武昌街一段六十四号八楼
主权项 1.一种记录液,其特征在于含有0.1至15重量%之以下 式(I) (I) (式内,PC示铜菁骨干、B示C2-C4之伸烷基或可经羧 基或磺酸基取代的伸苯基、R示C1-4烷基或C1-4烷氧 基C1-4烷基;M示氢原子、硷金属或硷土类金属;l示1- 3,m示0-2,n示1或2;惟l+m+n为2-4)表示的铜菁系化合 物作为记录液用色素。2.如申请专利范围第1项之 记录液,其中记录液在25℃之黏度为1-20mPas,表面 张力为30mN/m以上。3.如申请专利范围第1项或第2项 之记录液,系供喷墨记录用。
地址 日本