发明名称 | 用于检测和定位绝缘层中异常的方法和装置 | ||
摘要 | 本发明涉及一种用于检测在围绕延长分布的导体的绝缘层中的至少一处异常的方法,包含有:在该导体和地之间施加电位差;测量在第一位置处由所述异常产生的和沿第一位置的方向移动的电压变化;测量在第二位置处由所述异常产生的和沿第二位置的方向移动的电压变化;通过利用时间记录,测定由同一异常产生的和在第一和第二位置处测量的电压变化的到达时间差;根据该到达时间差和在第一和第二位置之间的所述导体的长度,测定在所述导体中的异常产生的位置。 | ||
申请公布号 | CN1251654A | 申请公布日期 | 2000.04.26 |
申请号 | CN98803798.X | 申请日期 | 1998.02.24 |
申请人 | 凯马·N·V | 发明人 | 德克·玛利那斯·范阿特里克 |
分类号 | G01R31/08 | 主分类号 | G01R31/08 |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 王以平 |
主权项 | 1.一种用于检测在围绕延长分布的导体的绝缘层中的至少一处异常的方法,包含有:在该导体和地之间施加电位差;在第一位置处测量由所述异常产生的和沿第一位置的方向移动的电压变化;在第二位置处测量由所述异常产生的和沿第二位置的方向移动的电压变化;通过利用时间记录,测定由同一异常产生的和在第一和第二位置处测量的电压变化的到达时间差;根据该到达时间差和在第一和第二位置之间的所述导体的长度,测定在所述导体中的异常产生的位置。 | ||
地址 | 荷兰阿纳姆 |