发明名称 洗净液
摘要 本发明系有关用来洗净施行金属配线后之基板的洗净液,是以含有草酸、草酸铵、聚胺基羧酸类中至少一种为其特征,其目的在提供不腐蚀金属、能够容易去除基板表面之金属不纯物、对环境不构成负荷及保存性等问题之用来洗净施行金属配线后之基板的洗净液。
申请公布号 TW387936 申请公布日期 2000.04.21
申请号 TW087112784 申请日期 1998.08.04
申请人 关东化学股份有限公司;电气股份有限公司 发明人 石川典夫;森清人;青木 秀充
分类号 C11D1/00;H01L21/461 主分类号 C11D1/00
代理机构 代理人 陈灿晖 台北巿城中区武昌街一段六十四号八楼;洪武雄 台北巿城中区武昌街一段六十四号八楼;陈昭诚 台北巿武昌街一段六十四号八楼
主权项 1.一种洗净液,系用来洗净施行金属配线后之基板, 而以含有(a)0.1至10重量%之选自草酸及草酸铵之至 少一种,或(b)0.0001至0.1重量之选自聚胺基羧酸及聚 胺基羧酸之非金属盐之至少一种,或(a)与(b)之组成 ,并且不含氟化氢为其特征者。2.如申请专利范围 第1项之洗净液,其中以含有草酸与聚胺基羧酸类 、草酸铵与聚胺基羧酸类、草酸与草酸铵与聚胺 基羧酸类之组合中之任一者。3.如申请专利范围 第2项之洗净液,其中以在室温下使用者。4.如申请 专利范围第1至3项中任一项之洗净液,其中以可用 于化学性机械研磨之后者。5.如申请专利范围第4 项之洗净液,其中以可用于化学性机械研磨后有金 属露出于表面之基板者。6.如申请专利范围第4项 之洗净液,其中以可用于化学性机械研磨后无金属 露出于表面之基板者。7.如申请专利范围第4项之 洗净液,其中以可用于金属填塞之化学性机械研磨 之后者。
地址 日本