| 发明名称 |
Verfahren und Vorrichtung zur Bearbeitung von Halbleitermaterial |
| 摘要 |
Vorrichtung und Verfahren zum Schutz von Halbleitermaterial, dadurch gekennzeichnet, daß Halbleitermaterial auf einer Oberfläche aus stabilisiertem Eis aus Reinstwasser und Partikeln aus Halbleitermaterial bearbeitet wird.
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| 申请公布号 |
DE19847098(A1) |
申请公布日期 |
2000.04.20 |
| 申请号 |
DE19981047098 |
申请日期 |
1998.10.13 |
| 申请人 |
WACKER-CHEMIE GMBH |
发明人 |
FLOTTMANN, DIRK;AST, GERHARD;WOLF, REINHARD |
| 分类号 |
B02C19/18;C30B15/00;C30B15/02;C30B29/06;C30B35/00;H01L21/208;(IPC1-7):B02C23/00 |
主分类号 |
B02C19/18 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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