发明名称 | 位置测量设备和设定倾斜的回转激光设备 | ||
摘要 | 本发明的一个目的是提供一种用于激光测量仪的设定倾斜回转激光设备。本发明提供了一种结构,在这种结构中,激光投射器投射一激光束,倾侧装置在至少一个方向上倾侧激光投射器,倾斜探测装置的一第一光学系统将光源来的光送向具有自由表面的一液体部件,光接收装置接收在液体部件上反射的光,一第二光学系统将在液体部件上被反射的光引导到光接收装置,算术运算装置根据光接收装置的接收到的信号计算倾斜,由此,根据倾斜来驱动倾侧装置,使激光投射器倾斜到所需的倾斜位置。 | ||
申请公布号 | CN1250870A | 申请公布日期 | 2000.04.19 |
申请号 | CN99121064.6 | 申请日期 | 1999.09.28 |
申请人 | 株式会社拓普康 | 发明人 | 熊谷薰;大友文夫;西正之 |
分类号 | G01B11/26 | 主分类号 | G01B11/26 |
代理机构 | 上海专利商标事务所 | 代理人 | 张兰英 |
主权项 | 1.一位置测量设备,它包括:一安排成能指示两维位置的图案;一能将从图案传送过来的光束分裂成指向两个方向的两个光束的第一光学系统;一将第一光学系统的光束聚集在第一方向的第一聚集元件;一将第一光学系统的光束聚集在不同于第一方向的第二方向的第二聚集元件;一接收由第一聚集元件聚集的图案映象的第一光接收元件;一接收由第二聚集元件聚集的图案映象的第二光接收元件;根据第一聚集元件和第二聚集元件接收的光信号计算图案上的位置的计算装置;其中图案由分别沿第一聚集元件和第二聚集元件的纵向以一定间隔排列的两维图案所组成,排列在每一纵向上的两维图案设置成从垂直于纵向的方向看具有同样的宽度。 | ||
地址 | 日本东京 |