| 发明名称 |
Method and apparatus for elimination of teos/ozone silicon oxide surface sensitivity |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
SG71777(A1) |
申请公布日期 |
2000.04.18 |
| 申请号 |
SG19980000765 |
申请日期 |
1998.04.20 |
| 申请人 |
APPLIED MATERIALS INC. |
发明人 |
NGUYEN, BANG, C.;VENKATARANAN SHANKAR;LIAO RUBY;LEE PETER WAI-MAN |
| 分类号 |
H01L21/31;C23C16/02;C23C16/40;C23C16/44;C23C16/455;H01L21/316;(IPC1-7):H01L21/31 |
主分类号 |
H01L21/31 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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