发明名称 COMPOSICION PARA LIMPIEZA PERSONAL, BARRA PARA LIMPIEZA PERSONAL QUE LA COMPRENDE Y PROCESO PARA HACERLA
摘要 Una composicion para limpieza personal que contiene: (a) un poliglucosido alquilo de la formula (I): R10(20)b (Z)a donde R es un radical orgánicomonovalente que tiene de 6 a 30 átomos de carbono; R es un radical alquileno divalente que tiene de2 a 4 átomos de carbono; Z es un residuo sacárido quetiene 5 o 6 átomos de carbono; b es un numero que tiene un valor de 0 a 12; a es un numero que tiene un valor de 1 a 6; (b) glicerina; (c) jabon; y (d)agua. Una barra para la limpieza personal que comprende la composicion anteriormente descripta. Un proceso para hacer la composicion para limpiezapersonal que comprende proveer los componentes (a) - (d) de dicha composicion, su mezcla y eventual moldeo en forma de pastilla.
申请公布号 AR009409(A1) 申请公布日期 2000.04.12
申请号 AR1997P105156 申请日期 1997.11.05
申请人 HENKEL CORPORATION 发明人
分类号 C11D1/66;C11D3/20;C11D10/04;C11D17/00;(IPC1-7):A61K7/50 主分类号 C11D1/66
代理机构 代理人
主权项
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