发明名称 |
COMPOSICION PARA LIMPIEZA PERSONAL, BARRA PARA LIMPIEZA PERSONAL QUE LA COMPRENDE Y PROCESO PARA HACERLA |
摘要 |
Una composicion para limpieza personal que contiene: (a) un poliglucosido alquilo de la formula (I): R10(20)b (Z)a donde R es un radical orgánicomonovalente que tiene de 6 a 30 átomos de carbono; R es un radical alquileno divalente que tiene de2 a 4 átomos de carbono; Z es un residuo sacárido quetiene 5 o 6 átomos de carbono; b es un numero que tiene un valor de 0 a 12; a es un numero que tiene un valor de 1 a 6; (b) glicerina; (c) jabon; y (d)agua. Una barra para la limpieza personal que comprende la composicion anteriormente descripta. Un proceso para hacer la composicion para limpiezapersonal que comprende proveer los componentes (a) - (d) de dicha composicion, su mezcla y eventual moldeo en forma de pastilla.
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申请公布号 |
AR009409(A1) |
申请公布日期 |
2000.04.12 |
申请号 |
AR1997P105156 |
申请日期 |
1997.11.05 |
申请人 |
HENKEL CORPORATION |
发明人 |
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分类号 |
C11D1/66;C11D3/20;C11D10/04;C11D17/00;(IPC1-7):A61K7/50 |
主分类号 |
C11D1/66 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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