发明名称 Vorrichtung und Verfahren zur Kühlung einer einseitug von Heißgas umgebenen Wand
摘要 Aufgabe der Erfindung ist es, eine Vorrichtung und ein entsprechendes Verfahren zur Kühlung einer einseitig von Heißgas umgebenen Wand mit einer weiter verbesserten Kühlwirkung zu schaffen. DOLLAR A Erfindungsgemäß wird dies dadurch erreicht, dass im Kühlhohlraum (5), stromauf jeder Ausnehmung (10), ein in letztere mündendes Umlenkelement (15) für das Kühlfluid (7) angeordnet und mittels Seitenwänden (16) gegenüber dem Kühlhohlraum (5) abgeschlossen ist. Auf diese Weise wird stromauf jeder Ausnehmung eine Teilströmung (21) des Kühlfluids (7) von der Hauptströmung (22) separiert. Lediglich diese Teilströmungen (21) werden bereits vor Erreichen der zugehörigen Ausnehmungen (10) in deren Richtung umgelenkt, so dass in jeder der Ausnehmungen ein stabiles Innenwirbelpaar (23) erzeugt wird.
申请公布号 DE19845147(A1) 申请公布日期 2000.04.06
申请号 DE19981045147 申请日期 1998.10.01
申请人 ABB RESEARCH LTD. 发明人 WILFERT, GUENTER;HERRMANN, CARSTEN
分类号 F01D5/18;(IPC1-7):F01D9/02;F02C7/12;F23R3/00 主分类号 F01D5/18
代理机构 代理人
主权项
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