| 摘要 |
Vakuumbehandlungskammer (1) für Werkstücke, mit mindestens einer Induktionsspule (9, 9a, 9') mindestens zur Miterzeugung eines Behandlungsplasmas in einem innerhalb der Spule gelegenen Entladungsraum (R) sowie mit einem zwischen Entladungsraum (R) und Spule angeordneten, zur Achse der Spule koaxialen, geschlitzten Schirm (13), dessen Schlitze eine zur Spulenachse (A) parallele Richtungskomponente aufweisen. Der Schirm (13b) ist durch einen in sich geschlossenen Körper gebildet und die Schlitze sind entlang mindestens des überwiegenden Umfangs des Körpers mit einer Schlitzdichte pro Umfangs-Längeneinheit S (Schlitzanzahl)/cm = 0,5</=S aufgebracht. |
