包含新的光活性化合物的正性光刻胶

摘要

本发明的正性光刻胶组合物包含一种减溶性树脂、具有以下结构(Ⅰ)的光活性化合物:其中,X为O、S或N－R’,其中R’为H、烷基、取代烷基、芳基或芳烷基,Y为连接基团,如SO₂、CO、O或NR’,Z为分子量大于约75的含碳有机压仓部分,且可与连接基团成键,R独立地为H、烷基、烷氧基、芳基、芳烷基、卤素或氟烷基,m=1－3,且n≥1;以及一种溶剂或溶剂混合物。本发明还提供了一种将本发明正性光刻胶成像的方法,以得到正像。该光敏组合物特别适用作正性深紫外光刻胶。

主权项

1.一种正性光敏组合物，它包括碱溶性树脂；由以下结构表示的光活性化合物：其中，X为O、S或N-R’，其中R’为H、烷基、取代烷基、芳基或芳烷基，Y为连接基团，如SO2、CO、O或NR’，Z为分子量大于约75的含碳有机压仓部分，且可与连接基团成键，R独立地为H、烷基、烷氧基、芳基、芳烷基、卤素或氟烷基，m＝1-3，且n≥1；以及一种溶剂混合物。