发明名称 |
DISPOSITIF AUTORISANT LE TRAITEMENT D'UN SUBSTRAT DANS UNE MACHINE PREVUE POUR TRAITER DE PLUS GRANDS SUBSTRATS ET SYSTEME DE MONTAGE D'UN SUBSTRAT DANS CE DISPOSITIF |
摘要 |
<P>Dispositif autorisant le traitement d'un substrat dans une machine prévue pour traiter de plus grands substrats et système de montage d'un substrat dans ce dispositif.Le dispositif comprend un anneau (24) ayant un diamètre extérieur égal au diamètre de ces substrats, cet anneau étant apte à sertir le substrat (22) de diamètre inférieur. Le système comprend des moyens (34) de manipulation de ce substrat et des moyens (36) de chauffage de l'anneau ou de refroidissement de ce substrat. Application en microélectronique.</P> |
申请公布号 |
FR2783970(A1) |
申请公布日期 |
2000.03.31 |
申请号 |
FR19980012002 |
申请日期 |
1998.09.25 |
申请人 |
COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE |
发明人 |
JOURDE DOMINIQUE;TORC GERARD |
分类号 |
H01L21/687 |
主分类号 |
H01L21/687 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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