| 发明名称 |
Method of etching tantalum oxide layer |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
GB2337361(B) |
申请公布日期 |
2000.03.29 |
| 申请号 |
GB19980009657 |
申请日期 |
1998.05.06 |
| 申请人 |
* UNITED MICROELECTRONICS, CORP. |
发明人 |
YI-CHUN * CHUNG |
| 分类号 |
H01L21/02;H01L21/311;H01L21/8242;(IPC1-7):H01L21/310;H01L21/321;H01L21/824 |
主分类号 |
H01L21/02 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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