发明名称 SEMICONDUCTOR STRUCTURE WITH CONTACTING
摘要 Die Halbleiterstruktur besteht aus einem ersten Halbleitergebiet (2) eines vorgegebenen Leitungstyps, innerhalb dessen mehrere vergrabene Inselgebiete (3) sowie ein von den Inselgebieten (3) räumlich abgesetztes, ebenfalls vergrabenes Inselkontaktgebiet (6) jeweils mit gegenüber dem Leitungstyp des ersten Halbleitergebiets (2) entgegengesetztem Leitungstyp angeordnet sind. Die Inselgebiete (3) sind untereinander und mit dem Inselkontaktgebiet (6) elektrisch leitend verbunden. Es sind in dem ersten Halbleitergebiet (2) Kontaktlöcher (70) vorgesehen, die bis zum Inselkontaktgebiet (6) reichen. Die Kontaktlöcher (70) dienen der ohmschen Kontaktierung des Inselkontaktgebiets (6) und damit auch der der Inselgebiete (3).
申请公布号 WO0016402(A1) 申请公布日期 2000.03.23
申请号 WO1999DE02746 申请日期 1999.09.01
申请人 SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT;BARTSCH, WOLFGANG;MITLEHNER, HEINZ;STEPHANI, DIETRICH 发明人 BARTSCH, WOLFGANG;MITLEHNER, HEINZ;STEPHANI, DIETRICH
分类号 H01L29/423;H01L29/772;H01L29/808;(IPC1-7):H01L29/06;H01L29/417 主分类号 H01L29/423
代理机构 代理人
主权项
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