发明名称 SEMICONDUCTOR STRUCTURE WITH CONTACTING
摘要 <p>Die Halbleiterstruktur besteht aus einem ersten Halbleitergebiet (2) eines vorgegebenen Leitungstyps, innerhalb dessen mehrere vergrabene Inselgebiete (3) sowie ein von den Inselgebieten (3) räumlich abgesetztes, ebenfalls vergrabenes Inselkontaktgebiet (6) jeweils mit gegenüber dem Leitungstyp des ersten Halbleitergebiets (2) entgegengesetztem Leitungstyp angeordnet sind. Die Inselgebiete (3) sind untereinander und mit dem Inselkontaktgebiet (6) elektrisch leitend verbunden. Es sind in dem ersten Halbleitergebiet (2) Kontaktlöcher (70) vorgesehen, die bis zum Inselkontaktgebiet (6) reichen. Die Kontaktlöcher (70) dienen der ohmschen Kontaktierung des Inselkontaktgebiets (6) und damit auch der der Inselgebiete (3).</p>
申请公布号 WO2000016402(A1) 申请公布日期 2000.03.23
申请号 DE1999002746 申请日期 1999.09.01
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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