发明名称 Stacked DRAM fin capacitor and method of making the same
摘要 Kondensator mit einem hoch-ε-dielektrischen oder ferroelektrischen Kondensatordielektrikum (9), dessen edelmetallhaltige Speicherelektrode mehrere Lamellen (61) aufweist, die über eine Stützstruktur (7) miteinander und ggf. mit dem Träger verbunden sind. Die Stützstruktur kann an einer oder mehreren Außenflanken der Lamellen angeordnet sein, oder sie kann im Innern durch die Lamellen verlaufen. Die Herstellung kann beispielsweise durch Abscheiden einer Schichtenfolge mit alternierend niedriger und hoher Ätzrate (ggf. mit einer Ätzstopschicht im unteren Bereich), Ätzen zur Schichtstruktur, Bilden der Stützstruktur, und selektives Entfernen der Schichten mit hoher Ätzrate erfolgen. <IMAGE>
申请公布号 EP0987755(A2) 申请公布日期 2000.03.22
申请号 EP19990118398 申请日期 1999.09.16
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 SCHLOESSER, TILL, DR.;LANGE, GERIT, DR.;FRANOSCH, MARTIN;WENDT, HERMANN, DR.
分类号 H01L27/04;H01L21/822;H01L21/8242;H01L27/105;H01L27/108;(IPC1-7):H01L21/824;H01L21/02 主分类号 H01L27/04
代理机构 代理人
主权项
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