发明名称 Device and method for the exposure of original images onto light-sensitive material
摘要 Es wird ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Aufbelichten von Bildvorlagen auf lichtempfindliches Material beschrieben, wobei aus den Dichtewerten der Vorlagen und aus vorbestimmten Gradationsfaktoren unscharfe Masken zum Verändern des Belichtungsstrahlengangs oder der abzubildenden Dichtewerte ermittelt werden. Zum Ermitteln der Maske einer Vorlage werden mehrere unterschiedliche Gradationsfaktoren verwendet. <IMAGE>
申请公布号 EP0987591(A2) 申请公布日期 2000.03.22
申请号 EP19990117348 申请日期 1999.09.03
申请人 AGFA-GEVAERT AKTIENGESELLSCHAFT 发明人 FUESSEL, MARKUS;JACOB, FRIEDRICH;FUERSICH, MANFRED, DR.;TARESCH, GUDRUN, DR.
分类号 G03B27/72;H04N1/407;(IPC1-7):G03B27/72 主分类号 G03B27/72
代理机构 代理人
主权项
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