| 主权项 |
1.一种阻剂处理装置,其特征为,具备:为了处理基板的多数之第1处理单元,和为了处理基板的第2处理单元,和具有为了对前述各个第1处理单元分别把基板取出放入的第1臂机构之第1搬送单元,和挟着该第1处理单元设在与前述第1搬送单元对向的位置,具有为了对前述多数之第1处理单元中至少1个与前述第2处理单元将基板分别取出放入的第2臂机构之第2搬送单元,及邻接为了进行连续在前述第1及第2处理单元中的至少一方所进行之处理的下一个处理之外部装置设置,在与该外部装置之间由前述第1臂机构进行基板的交接之介面部者。2.如申请专利范围第1项的阻剂处理装置,其中,上述第2处理单元,包含在基板涂布阻剂之阻剂涂布机构,上述外部装置,系为了把由前述阻剂涂布机构涂布在基板的阻剂图型曝光之曝光处理装置。3.如申请专利范围第2项的阻剂处理装置,其中,上述多数之第1处理单元,包含将基板热处理的热处理系统单元,上述第2处理单元,包含使用处理液把基板处理之液处理系统单元。4.如申请专利范围第3项的阻剂处理装置,其中,上述液处理系统单元,包含将阻剂涂布在基板之阻剂涂布机构,和把显影液淋在以上述曝光处理装置图型曝光的阻剂而显影之显影机构。5.如申请专利范围第1项的阻剂处理装置,其中,上述第2处理单元,系挟着上述第2搬送单元配置在和上述各个第1处理单元对向之位置。6.如申请专利范围第1项的阻剂处理装置,其中,并且,具有使上述第2搬送单元之内压会成为比上述第1搬送单元的内压高地调整压力之压力调整装置。7.如申请专利范围第1项的阻剂处理装置,其中,更具有,为了将清净空气导入上述第1处理单元及第1搬送单元之有第1过滤器元件的第1过滤器装置,和与前述第1过滤器元件不同种类之第2过滤器元件,具有为了把清净空气导入上述第2处理单元及第2搬送单元之第2过滤器设备。8.如申请专利范围第1项的阻剂处理装置,其中,更且,具有配置在上述第1搬送单元和第2搬送单元之间,将在上述第1臂机构和上述第2臂机构之间交接的基板会暂时滞留之伸长单元。9.如申请专利范围第1项的阻剂处理装置,其中,更且,具有配置在上述第2处理单元之上方领域以外的其他领域上方之控制用电子零件。10.一种阻剂处理装置,其特征为具备:为了处理基板的多数之第1处理单元,和为了处理基板的第2处理单元,和具有为了对前述各个第1处理单元把基板分别取出放入的第1臂机构之第1搬送单元,和挟着该第1处理单元设在与前述第1搬送单元对向的位置,具有为了对前述多数之第1处理单元中的至少1个与前述第2处理单元把基板分别取出放入之第2臂机构的第2搬送单元,及使该第2搬送单元之内压会成为比上述第1搬送单元的内压高地调整压力之压力调整装置。11.如申请专利范围第10项的阻剂处理装置,其中,更具备:有为了把清净空气导入上述第1处理单元及第1搬送单元的第1过滤器元件之第1过滤器装置,和有与前述第1过滤器元件不同种类的第2过滤器元件,为了把清净空气导入上述第2处理单元及第2搬送单元之第2过滤器装置。12.如申请专利范围第10项的阻剂处理装置,其中,更具备:有为了把清净空气导入上述第1处理单元及上述第1搬送单元的一部份之第1过滤器元件的第1过滤器装置,和有与前述第1过滤器元件不同种类之第2过滤器元件,为了把清净空气导入上述第2处理单元及上述第2搬送单元的一部份之第2过滤器装置,与该第2搬送单元的一部份系与前述第1搬送单元之一部份面对者。13.如申请专利范围第10项的阻剂处理装置,其中,上述多数之第1处理单元,包含将基板热处理的热处理系统单元,上述第2处理单元,包含将基板使用处理液处理之液处理系统单元。14.如申请专利范围第10项的阻剂处理装置,其中,上述第2处理单元,系配置在挟着上述第2搬送单元和上述各个第1处理单元对向之位置。15.如申请专利范围第10项的阻剂处理装置,其中,更具有配置在上述第1搬送单元和上述第2搬送单元之间,在上述第1臂机构和上述第2臂机构之间交接的基板暂时停留之伸长单元。16.如申请专利范围第10项的阻剂处理装置,其中,更具有,邻接在为了进行连续在上述第1及第2处理单元中至少一方所进行的下一处理之外部装置设置,在和该外部装置之间由上述臂机构进行基板的交接之介面部。17.如申请专利范围第10项的阻剂处理装置,其中,更具有,配置在上述第2处理单元的上方领域以外之其他领域上方的控制用之电子零件。18.一种阻剂处理装置,其特征为,具备:为了处理基板的多数之第1处理单元,和为了处理基板的第2处理单元,和具有为了对前述各第1处理单元分别将基板取出放入的第1臂机构之第1搬送单元,和为了从外部接受基板,并且,把基板交给外部之外部交接部,及对该外部交接部设成气密,并且,具有对前述多数的第1处理单元之中之至少1个及前述第2处理单元进行基板取出放入的第2臂机构之第2搬送单元。19.一种阻剂处理装置,其特征为,具备:为了处理基板的多数之第1处理单元,和为了处理基板的第2处理单元,和具有为了对前述各个第1处理单元分别把基板取出放入的臂机构之第1搬送单元,和如挟住前述多数的第1处理单元地配置在与前述第1搬送单元对向之位置,具有对前述多数的第1处理单元之中至少1个及前述第2处理单元进行基板之取出放入的第2臂机构之第2搬送单元,及具有为了从外部接受基板,并且,把基板交给外部的第3臂机构之外部交接部,和前述第3臂机构将与上述第1臂机构之间把基板交换。20.如申请专利范围第18项或第19项的任何1项之阻剂处理装置,其中,上述外部交接部,为卡匣站及介面部中之至少一方。21.如申请专利范围第18项或第19项中的任何一项之阻剂处理装置,其中,上述多数之第1处理单元,包含将基板热处理的热处理系统单元,上述第2处理单元,包含把基板使用处理液处理之液处理系统单元。22.如申请专利范围第18项或第19项中的任何一项之阻剂处理装置,其中,上述第2处理单元,系配置在挟住上述第2搬送单元和上述各第1处理单元对向之位置。23.如申请专利范围第18项或第19项中的任何一项之阻剂处理装置,其中,更具有,使上述第2搬送单元的内压会成为比上述第1搬送单元之内压高地调整压力的压力调整装置。24.如申请专利范围第18项或第19项中的任何一项之阻剂处理装置,其中,更具备:有为了将清净空气导入上述第1处理单元及第1搬送单元的第1过滤器元件之第1过滤器装置,和有与前述第1过滤器元件不同种类的第2过滤器元件,为了把清净空气导入上述第2处理单元及第2搬送单元之第2过滤器装置。25.如申请专利范围第18项或第19项中的任何一项之阻剂处理装置,其中,更具有,配置在上述第1搬送单元和第2搬送单元之间,在上述第1臂机构和上述第2臂机构之间交接的基板将暂时滞留之伸长单元。26.如申请专利范围第18项或第19项中的任何一项之阻剂处理装置,其中,更具有,配置在上述第2处理单元的上方领域以外之领域上方的控制用之电子零件。27.一种阻剂处理装置,其特征为,具备:为了将基板对卡匣取出放入的卡匣站,和为了曝光处理基板将被交接之介面部,和为了把基板处理的多数之第1处理单元,和具有为了对前述各第1处理单元分别把基板取出放入的第1臂机构之第1搬送单元,及对前述卡匣站及前述介面部设成气密,并且如挟住前述多数的第1处理单元地配置在与前述第1搬送单元对向之位置,具有对前述多数的第1处理单元中之至少1个及前述第2处理单元进行基板的取出放入之第2臂机构的第2搬送单元。28.如申请专利范围第27项的阻剂处理装置,其中,上述多数之第1处理单元,包含将基板热处理的热处理系统单元,上述第2处理单元,包含将基板使用处理液处理之液处理系统单元。29.如申请专利范围第27项的阻剂处理装置,其中,上述第2处理单元,系配置在挟住上述2第搬送单元和上述各第1处理单元对向之位置。30.如申请专利范围第27项的阻剂处理装置,其中,更具有,使上述第2搬送单元之内压会成为比上述第1搬送单元的内压高地调整压力之压力调整装置。31.如申请专利范围第27项的阻剂处理装置,其中,更具有,为了将清净空气导入上述第1处理单元第1搬送单元的第1过滤器元件之第1过滤器装置,和具有与前述第1过滤器元件不同种类的第2过滤器元件,有为了将清净空气导入上述第2处理单元及第2搬送单元之第2过滤器装置。32.如申请专利范围第27项的阻剂处理装置,其中,更具有,配置在上述第1搬送单元和上述第2搬送单元之间,将在上述第1臂机构和上述第2臂机构之间被交接的基板暂时停留之伸长单元。33.如申请专利范围第27项的阻剂处理装置,其中,更具有,配置在上述第2处理单元的上方领域以外之其他领域上方的控制用之电子零件。图式简单说明:第一图,系显示关于本发明的实施例之阻剂处理装置(第1实施例)的概要之平面布置图。第二图,系把关于本发明之实施例的阻剂处理装置模式性地显示之正面图。第三图,系把关于本发明之实施例的阻剂处理装置模式性地显示之背面图。第四图,系把关于本发明的实施例之阻剂处理装置从侧方观察而显示在装置内部的清净空气流之内部透视图。第五图,系显示设在关于本发明的实施例之阻剂处理装置的上部过滤器之配置的平面布置图。第六图,系显示关于本发明的第2实施例之阻剂处理装置的概要之平面布置图。第七图,系显示关于本发明的第3实施例之阻剂处理装置的概要之平面布置图。第八图,系显示关于本发明的第4实施例之阻剂处理装置的概要之平面布置图。 |
