| 发明名称 |
Method and apparatus for coating resist and developing the coated resist |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
SG71082(A1) |
申请公布日期 |
2000.03.21 |
| 申请号 |
SG19980000196 |
申请日期 |
1998.01.26 |
| 申请人 |
TOKYO ELECTRON LIMITED |
发明人 |
YOSHIOKA KAZUTOSHI;OGATA KUNIE |
| 分类号 |
G03F7/16;G03F7/30;G03F7/38;(IPC1-7):G03F7/16;G03F7/20 |
主分类号 |
G03F7/16 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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