| 摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Herstellen und Bearbeiten von einem Halbleitersubstrat (2) bei einer hohen Temperatur mit einem Suszeptor (1), auf dem das wenigstens eine Halbleitersubstrat aufliegt, so daß ein guter Wärmekontakt zwischen dem Halbleitersubstrat und dem Suszeptor (1) besteht. Damit es beim Herstellungsprozeß nicht zu einer Kontamination des Bauelements kommt, wird die Oberfläche des Suszeptors (1) mit einer Abdeckplatte (7) belegt, die eine Aussparung (6) für das Halbleitersubstrat aufweist, so daß die Oberfläche des Suszeptors (1) im wesentlichen vollständig durch die Abdeckplatte (7) und das Halbleitersubstrat (2) bedeckt ist.</p> |
