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发明名称 METHOD FOR FORMING SILICON FILM
摘要
申请公布号 KR100248563(B1) 申请公布日期 2000.03.15
申请号 KR19940023395 申请日期 1994.09.15
申请人 TOKYO ELETRON TOHOKU LTD.;TOKYO ELECTRON LIMITED 发明人 HASEBE, KAZUHIDE;NISHIMURA, TOSHIHARU
分类号 H01L21/205;C23C16/24;C30B29/06;(IPC1-7):C30B29/06 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
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