| 发明名称 | 输送基片机械抛光研磨悬浮液的设备和方法 | ||
| 摘要 | 输送研磨悬浮液的设备包括:一个盛装研磨悬浮液的罐,一个连在罐上的输送研磨悬浮液的环路,使研磨悬浮液在环路中循环并确保其返回罐的循环装置,使循环后的研磨悬浮液得以复原的复原装置,使研磨悬浮液维持连续循环的控制循环装置的控制装置。 | ||
| 申请公布号 | CN1247381A | 申请公布日期 | 2000.03.15 |
| 申请号 | CN99111787.5 | 申请日期 | 1999.08.11 |
| 申请人 | 液体空气乔治洛德方法利用和研究有限公司 | 发明人 | 蒂里埃·莱德里赫;乔治·瓜尔内里;埃尔韦·迪尔法伊 |
| 分类号 | H01L21/304 | 主分类号 | H01L21/304 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 张祖昌 |
| 主权项 | 1.输送研磨悬浮液的设备，其特征在于它包括：一个盛装一种研磨悬浮液(2)的罐(1)，一个和罐(1)相连的输送研磨悬浮液(2)的环路(3，7，9，40)，使研磨悬浮液在环路中循环并返回罐中的循环装置，使在环路中循环后的研磨悬浮液得以复原的复原装置(1)，为维持悬浮液连续循环而设的控制循环装置的控制装置(81)。 | ||
| 地址 | 法国巴黎 | ||