| 主权项 |
1.一种电浆反应器,包含有:一用来容纳至少在一选定压力下的一反应性气体及被处理的半导体晶圆之真空箱体;一对用来电容性耦合射频功率至该箱体的电极;一线圈,具有多数导体绕线及一对围着多数该等绕线之端,该对端子分别耦接该对电极中的对应电极;一具有连接至一该等绕线之一中间绕的一射频功率端子的射频电源;及一接地导电分接头,其与该线圈接触,且可选择性在由该对端子所围住之该等绕线的该多数绕线间移动以改变该对电极间的功率分配。2.如申请专利范围第1项的反应器,其中该等电极的一第一个是一位在该晶圆下面的阴极,而该等电极的一第二个是一位在该晶圆上面的阳极。3.如申请专利范围第2项的反应器,其中该阳极包含有一具有用来导引该反应性气体进入该箱体中的多数个孔洞之气体分配板。4.如申请专利范围第2项的反应器,其中该射频电源更有一接地的射频返回端子,且其中该箱体具有接地的侧墙。5.如申请专利范围第1项的反应器,其更包含有一与该线圈并联且可控制用以维持在该射频电源与该对电极间的一阻抗匹配的可变电容器。6.如申请专利范围第5项的反应器,其更包含有一对电容器,该对电容器的每一个分别被连接于该等第一及第二端子之其中一个与该等第一及第二电极之其中一个之间。7.如申请专利范围第2项的反应器,其中该接地分接头是较接近于该第一端子,因此降低该晶圆附近的离子能量。8.如申请专利范围第2项的反应器,其中该接地分接头是较接近于该第二端子,因此增强该晶圆附近的离子能量。9.如申请专利范围第1项的反应器,其中该可滑式接地分接头可沿着一圆柱轴的方向平行移动。10.在一种包含有一用以容纳至少在一选定压力下的一反应性气体与被处理的半导体晶圆之真空箱体、一对用来电容性耦合射频功率至该箱体的电极与一具有一射频功率端子的射频电源、一用来耦接该射频电源至该对电极的电路等元件的电浆反应器,该用来耦接该射频电源至该对电极的电路包含有:一线圈,具有多数绕线及一对围住多数该等绕线之端子,该对端子分别耦接该对电极中的对应电极,该等绕线的其中一个连接至该射频电源的该射频功率端子;及一接地导电分接头,其与该线圈接触,且可选择性在与该对端子所围住之多数绕线间移动以改变该对电极间的功率分配比。11.如申请专利范围第10项的反应器,其中该等电极的一第一个是一位在该晶圆下面的阴极,而该等电极的一第二个是一位在该晶圆上面的阳极。12.如申请专利范围第11项的反应器,其中该阳极包含有一具有用来导引该反应性气体进入该箱体中的多数个孔洞之气体分配板。13.如申请专利范围第11项的反应器,其中该射频电源更有一接地的射频返回端子,且其中该箱体具有接地的侧墙。14.如申请专利范围第10项的反应器,其更包有一与该线圈并联且可控制用以维持在该射频电源与该对电极间的一阻抗匹配的可变电容器。15.如申请专利范围第14项的反应器,其更包含有一对电容器,该对电容器的每一个分别被连接于该等第一及第二端子之其中一个与该等第一及第二电极之其中一个之间。16.如申请专利范围第11项的反应器,其中该接地分接头是较接近于该第一端子,因此降低该晶圆附近的离子能量。17.如申请专利范围第11项的反应器,其中该接地分接头是较接近于该第二端子,因此增强该晶圆附近的离子能量。18.如申请专利范围第10项的反应器,其中该导电分接头是一可滑式分接头。图式简单说明:第一图是本发明的第一实施例,一电容性耦合电浆反应器的概要图。 |
