METHOD AND DEVICE FOR COATING SUBSTRATES IN A VACUUM

摘要

Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Beschichtung von Substraten im Vakuum, bei dem aus einem Target unter Verwendung eines Laserstrahls ein Plasma erzeugt und ionisierte Teilchen des Plasmas auf dem Substrat als Schicht abgeschieden werden, wobei inertes reaktives Gas oder ein Gasgemisch zugeführt wird. Mit der erfindungsgemässen Lösung soll eine Möglichkeit vorgegeben werden, um Gase bzw. Gasgemische lokal und zeitlich definiert zuführen zu können. Erfindungsgemäss wird diese Aufgabe dadurch gelöst, dass das Gas bzw. Gasgemisch aus und/oder durch ein poröses Target dem Plasma zugeführt wird, wobei das Target durch seine Porosität eine Zwischenspeicherfunktion aufweisen soll.