METHOD OF FABRICATING A SELF-ALIGNED CONTACT HOLE FOR A SEMICONDUCTOR DEVICE,申请号KR19960005158-传众专利搜索

发明名称	METHOD OF FABRICATING A SELF-ALIGNED CONTACT HOLE FOR A SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号	KR100242352(B1)	申请公布日期	2000.03.02
申请号	KR19960005158	申请日期	1996.02.28
申请人	NEC CORPORATION	发明人	HUKKASE, DADASHI
分类号	H01L21/28;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/60;H01L21/768;H01L21/8242;H01L27/108;(IPC1-7):H01L21/28	主分类号	H01L21/28
代理机构		代理人
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