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发明名称 Treatment of conductive lines in semiconductor device fabrication
摘要
申请公布号 EP0957512(A3) 申请公布日期 2000.03.01
申请号 EP19990302929 申请日期 1999.04.15
申请人 SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT;INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES 发明人 RAMACHANDRAN, RAVIKUMAR;NATZLE, WESLEY;GUTSCHE, MARTIN;AKATSU, HIROYUKI;YU, CHIEN
分类号 H01L21/302;H01L21/02;H01L21/3213;(IPC1-7):H01L21/321 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
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