| 发明名称 |
Dual collimator physical-vapor deposition apparatus |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
AU5392299(A) |
申请公布日期 |
2000.02.28 |
| 申请号 |
AU19990053922 |
申请日期 |
1999.08.04 |
| 申请人 |
CVC, INC. |
发明人 |
AJIT PARANJPE;PETER SCHWARTZ;JACQUES KOOLS;KANG SONG;DORIAN HEIMANSON;MEHRDAD M. MOSLEHI |
| 分类号 |
C23C14/04;C23C14/22;C23C14/34;G11B5/31;H01J37/34 |
主分类号 |
C23C14/04 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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