发明名称 Device for depositing thin layers on substrates
摘要 Bei einer Vorrichtung zum Beschichten von Substraten (2) mit dünnen Schichten ist das Target (3, 4) als rotationssymmetrischer Körper ausgeformt, der das Substrat (2) ringförmig umschließt, wobei das Target (3) ein Hohlzylinder ist, dessen eine stirnseitige Öffnung verschlossen ist, wobei zwei jeweils einen geschlossenen Ring bildende Reihen von Permanentmagneten (5, 6) vorgesehen sind, von denen die erste geschlossene Reihe (5) die kreiszylindrische Partie des Targets (3) mit Abstand umschließt und die zweite geschlossene Reihe (6) mit Abstand zum die Bodenpartie des Targets (3) bildenden Kreisscheibenstück (4) und koaxial zur Rotationsachse (R) des Hohlzylinders (3) angeordnet ist, wobei jeweils beide Magnetreihen (5, 6) mit einem Joch (7 bzw. 8) aus ferromagnetischem Werkstoff zusammenwirken, deren Polschuhe (9a, 9b bzw. 10a, 10b) jeweils an einem das zylindrische (3) und das den Boden bildende kreisscheibenförmige Stück (4) des Targets (3, 4) von außen einhüllenden Gehäuse (11) aus nichtmagnetischem Werkstoff anliegen. <IMAGE>
申请公布号 EP0981150(A2) 申请公布日期 2000.02.23
申请号 EP19990111632 申请日期 1999.06.16
申请人 ALD VACUUM TECHNOLOGIES AG 发明人 ADAM, ROLF
分类号 C23C14/35;C23C14/34;H01J37/34;(IPC1-7):H01J37/34 主分类号 C23C14/35
代理机构 代理人
主权项
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