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"PROCESSO PARA PURIFICAçãO DE P-NITRO-DIFENIL-éTERES SUBSTITUìDOS". Descreve-se um processo para purificação de um composto da Fórmula (I) genérica, na qual R^ 1^ é hidrogênio ou alquila de C~ 1~-C~ 6~, alquenila de C~ 2~-C~ 6~ ou alquinila de C~ 2~-C~ 6~, qualquer um dos quais pode ser opcionalmente substituído com um ou mais constituintes selecionados entre halogênio e hidróxi; ou COOR^ 4^, COR^ 6^, CONR^ 4^R^ 5^ ou CONHSO~ 2~R^ 4^; R^ 4^ e R^ 5^ representam independentemente hidrogênio ou alquila de C~ 1~-C~ 4~ opcionalmente substituída com um ou mais átomos de halogênio; R^ 6^ é um átomo de halogênio ou um grupo R^ 4^; R^ 2^ é hidrogênio ou halo; e R^ 3^ é alquila de C~ 1~-C~ 4~, alquenila de C~ 2~-C~ 4~ ou alquinila de C~ 2~-C~ 4~, qualquer um dos quais pode ser opcionalmente substituído com um ou mais átomos de halogênio; ou halo; ou, quando apropriado, um de seus sais; a partir de uma mistura que contém o composto genérico da Fórmula (I) junto com um ou mais dos seus isómeros ou análogos dinitrados; sendo que o processo compreende dissolver a mistura em um solvente cristalizador apropriado e recristalizar o produto a partir da solução de cristalização resultante, onde a solução de cristalização não contém mais do que 25% de carga do composto genérico da Fórmula (I), e em que a temperatura até a qual a solução é resfriada para cristalização não é maior do que cerca de 30 °C; em que, depois da adição do solvente cristalizador, mas antes da recristalização, a solução de cristalização é submetida a pelo menos uma lavagem com uma solução aquosa que tem um pH ácido. O processo é particularmente útil para purificar acifluorfeno.
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