半导体装置制程用或液晶装置制程用清洗剂

摘要

本发明之清洗剂为以正磷酸与尿素之反应产物多磷酸－尿素缩合物或磷酸－尿素聚合物作为有效成分，且于半导体装置制程及液晶装置制程中之至少一种制程中，被使用于金属和／或玻璃表面之清洗。若依据本发明，则于环境面，作业面等之安全性高，且效率佳，并且亦无金属腐蚀等之问题，并可进行金属（亦包含非金属）和玻璃表面之蚀刻残留物及不纯物等之清洗。

主权项

1.一种半导体装置制程用或液晶装置制程用清洗剂,其为以正磷酸与尿素之反应产物多磷酸一尿素缩合物或磷酸-尿素聚合物作为有效成分。2.如申请专利范围第1项所述之半导体装置制程用或液晶装置制程用清洗剂,其为以正磷酸与尿素之反应时莫耳比为正磷酸:尿素=1:1-1:5反应之多磷酸-尿素缩合物或磷酸-尿素聚合物作为有效成分。图式简单说明:第一图为示出基板上所形成之微细图型之图面代用照片,为示出依据本发明清洗剂(多磷酸-尿素缩合物浓度40wt%)处理后之矽乾胶片的SEM照片。第二图为示出基板上所形成之微细图型的图面代用照片,为示出未处理之矽乾胶片的SEM照片。第三图为示出基板上所形成之微细图型的图面代用照片,为示出依据本发明清洗剂(多磷酸-尿素缩合物浓度0.5wt%)处理后之Si/Ti/TiN/Al/TiN之层合基板的SEM照片。第四图为示出基板上所形成之微细图型的图面代用照片,为示出依据本发明清洗剂(多磷酸-尿素缩合物浓度40wt%)处理后之Si/Ti/TiN/Al/TiN之层合基板的SEM照片。第五图为示出基板上所形成之微细图型的图面代用照片,为示出未处理之Si/Ti/TiN/Al/TiN之层合基板的SEM照片。