| 主权项 |
1.一种光学检查装置,用以检查一物体之第一表面和一位于另一侧的第二表面,个别地藉由一第一和一第二检查光束,每一个经由若干光学元件从一辐射光源延伸,用以导引此光束并将此光束聚焦在此被检查的表面,和备有一用以移动一自此检查光束在被检查的表面形成之辐射光点之扫描元件横越过此表面的路径,和一辐射敏感侦测器被提供于每一检查光束,其用以转换自此被检查表面所散射之检查光束的辐射成为一电子信号,其特征为,对于每一检查光束,首先在该散射辐射的路径中,提供一元件,其造成此辐射通过相同的路径,但却在与其相反的方向;就扫描元件而言带有和检查光束相同的光学元件,且其中此侦测器被提供在此扫描元件之后。2.如申请专利范围第1项的光学检查装置,其特征为,提供一共同扫描元件在二检查光束的路径中。3.如申请专利范围第2项的光学检查装置,其中此扫描元件为一多面反射镜,其特征为,对于每一检查光束,有一分离的光源和一分离的侦测器,而其中此检查光束入射在此多面反射镜的二侧反射镜面上。4.如申请专利范围第2项的光学检查装置,其中此扫描元件为一多面反射镜,其特征为,此二检查光束入射在此多面反射镜的相同反射镜面上。5.如申请专利范围第4项的光学检查装置,特征为一单一辐射光源和一分光镜其安排于此光源和此扫描元件之间,而其用以由供给自此光源之辐射光束形成此二检查光束。6.如申请专利范围第5项的光学检查装置,其特征为,一光束遮断器配置在分光镜和扫描元件之间,让光束遮断器用以交替地阻挡此二检查光束。7.如申请专利范围第4,5或6项之任一项的光学检查装置,其特征为,对于每一检查光束,此辐射光源相对于此扫描元件以反射自此元件之检查光束的主光线延伸垂直于此元件之旋转轴的方法来安排。8.如申请专利范围第1,2,3,4,5或6项之任一项的光学检查装置,用以检查一透明物体的二对立表面,特征为一光学高度计,其包括一辐射光源单元用以滙聚测量光束,其主光线造成一与第一表面之法线的第一角度,和一位置敏感的侦测单元用以侦测一由第一表面反射的辐射光束,其主光线造成一与该法线的第二角度,该角度与第一角度相反。9.如申请专利范围第8项的光学检查装置,其特征为,此高度计包含一光圈其被定方向和放置使得反射自第一表面的辐射光束可以通过此光圈孔并到达此侦测单元,而反射自第二表面的辐射光束被此光圈阻挡。10.一种光罩检查装置,用以侦测在一微影蚀刻光罩上的灰尘粒子和其中的缺陷,该装置由如申请专利范围第1,2,3,4,5或6项的光学检查装置所形成。11.一种微影蚀刻装置,用以装一光罩图样成像在基板上,该装置包含一照明系统,一光罩桌用以容纳一光罩,及一基板桌用以容纳一基板;其特征为一根据申请专利范围第10项的光罩检查装置被安排在至此光罩桌的光罩供给路径中。图式简单说明:第一图为一光罩检查装置的第一种具体装置,第二图表示此装置之一较佳具体装置的一部分,第三图表示此具体装置的另一部分,第四图表示此另一部分的替代,第五图表示一备有一高度计的检查装置,第六图表示此高度计的细节,及第七图表示一备有一光罩检查装置之光刻法投影装置。 |
