| 主权项 |
1.一种涂有吸收材料的平板萤幕网的制造方法,包括下列步骤;●提供一金属片,它的厚度与所造成的网的厚度相同且它的面积至少等于影像成形区的面积;●用一或多种非挥发性吸收(NEG)材料覆盖该金属片;●选择性移走被该吸收材料覆盖的该金属片的部分。2.如申请专利范围第1项所述之方法,其中,该金属片是以镍、镍铬合金或镍铁合金做成。3.如申请专利范围第1项所述之方法,其中,该金属片的厚度从20至100微米。4.如申请专利范围第1项所述之方法,其中,该金属片的尺寸与所造成的网的尺寸相同,且全被该NEG材料沈积物覆盖。5.如申请专利范围第1项所述之方法,其中,该金属片的尺寸与所造成的网的尺寸相同,且部分被该NEG材料沈积物覆盖,有一或多边不接触该沈积物。6.如申请专利范围第1项所述之方法,其中,该金属片的尺寸约是所造成的网的尺寸的数倍,且全被该NEG材料沈积物覆盖。7.如申请专利范围第1项所述之方法,其中,该金属片的单面被该NEG材料覆盖。8.如申请专利范围第1项所述之方法,其中,该金属片的两面都被该NEG材料覆盖。9.如申请专利范围第1项所述之方法,其中,该NEG材料沈积物是以冷轧产生。10.如申请专利范围第1项所述之方法,其中,该NEG材料沈积物是以扩散技术产生。11.如申请专利范围第1项所述之方法,其中,该NEG材料沈积物是以丝网印的技术产生。12.如申请专利范围第1项所述之方法,其中,该NEG材料沈积物的厚度从20至100微米。13.如申请专利范围第12项所述之方法,其中,该NEG材料沈积物比该金属片厚。14.如申请专利范围第1项所述之方法,其中,该沈积是以扩散或丝网印的技术制造且该金属片的两面都被覆盖时,在该相反两侧上的两层沈积物的厚度相同或相似。15.如申请专利范围第1项所述之方法,其中,该NEG材料是选自锆、钛、铌、铪、钽、钨及它们的混合及若干合金,这些合金包括上述金属或从第一族过镀性元素选出的金属及铝。16.如申请专利范围第15项所述之方法,其中,该NEG材料是选自锆铝、锆铁、锆镍、锆铜、钛钒、钛铬、锆钒、锆钒铁、锆锰铁及锆铜稀土族合金。17.如申请专利范围第15项所述之方法,其中,该NEG材料是选自锆、钛、铌、铪、钽、钨及它们的混合及申请专利范围第16项所述的合金。18.如申请专利范围第15项所述之方法,其中,该沈积物是以扩散或丝网印的技术产生,镍或钛粉被加到该NEG材料,其重量占总重量的2至20%。19.如申请专利范围第1项所述之方法,其中,该NEG材料的粒子尺寸小于50微米。20.如申请专利范围第19项所述之方法,其中,该NEG材料的粒子尺寸小于20微米。21.如申请专利范围第1项所述之方法,其中,被该NEG材料覆盖的该金属片的部分的移走是以化学蚀刻进行。22.如申请专利范围第1项所述之方法,其中,被该NEG材料覆盖的该金属片的部分的移走是以镭射切割进行。23.一种以申请专利范围第1项所述之方法用非挥发性吸收材料覆盖一或二面的网。24.如申请专利范围第23项所述之网,有正方形、菱形、圆形或椭圆形孔。25.如申请专利范围第24项所述之网,该等孔有从50到200微米的尺寸,且被一些有50至300微米的宽度的金属部分隔开。26.如申请专利范围第24项所述之网,其中,该等孔被设在一正方形或六边形萤幕形里。图式简单说明:第一图呈现本发明的涂有吸收材料的网路。第二图呈现本发明的网格的另一实施例。第三图是一FED的分解图,该FED包括以本发明的制造方法所得的网格。 |
