发明名称 Dry developable photoresist compositions and method for use thereof
摘要
申请公布号 EP0543762(B1) 申请公布日期 2000.02.16
申请号 EP19920480163 申请日期 1992.10.23
申请人 INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES 发明人 CLECAK, NICHOLAS JEFFRIES;WILLSON, CARLTON GRANT;MCDONALD, SCOTT ARTHUR;CONLEY, WILLARD EARL;KWONG, RANEE WAI-LING;SCHLOSSER, HUBERT;LINEHAN, LEO LAWRENCE;SACHDEV, HARBANS SINGH
分类号 G03F7/029;G03F7/004;G03F7/038;G03F7/039;G03F7/26;G03F7/36;G03F7/38;H01L21/027;H01L21/30;(IPC1-7):G03F7/038 主分类号 G03F7/029
代理机构 代理人
主权项
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