| 主权项 |
1.一种彩色滤光镜(color filter)的制造方法,系包括: (a)提供一已完成前段制程的基板,于所述基板上形 成一正彩色光阻(positive color resist); (b)将所述正彩色光阻之部分区域曝光(expose); (c)进行显影(develop),以移除曝光后之所述正彩色光 阻部分区域; (d)于表面涂布一层负光阻性材料; (e)将所述负光阻性材料曝光、显影、及硬烤。2. 如申请专利范围第1项所述彩色滤光镜的制造方法 ,其中所述(e)步骤之后,可重复(a)-(e)步骤,以形成其 他颜色的彩色滤光镜。3.如申请专利范围第1项所 述彩色滤光镜的制造方法,其中所述负光阻性材料 系具有大于90%的光穿透率(trans-mittance)。4.如申请 专利范围第1项所述彩色滤光镜的制造方法,其中 所述正彩色光阻系包含一正光阻及一单色染料(dye )。5.如申请专利范围第1项所述彩色滤光镜的制造 方法,其中所述基板系包含液晶显示装置(liquid crystal display device)。6.如申请专利范围第1项所述 彩色滤光镜的制造方法,其中所述基板系包含固态 感测器元件(solid state imager device)。7.如申请专利 范围第6项所述彩色滤光镜的制造方法,其中所述 固态感测器元件系为电荷耦合装置 (charge coupled device;CCD)。8.如申请专利范围第6项所述彩色滤光 镜的制造方法,其中所述固态感测器元件系为互补 式金氧半导体影像器(complementary metal oxide semiconductor imager;CMOS imager)。9.一种彩色滤光镜( color filter)的制造方法,系包括: (a)提供一具有固态影像器(solid state imager)的基板, 于所述基板上形成第一光阻,其中所述第一光阻包 含一正光阻及第一染料(dye); (b)将所述第一光阻之部分区域曝光(expose),并进行 显影(develop),以移除曝光后之所述第一光阻部分区 域; (c)于表面涂布第一隔离层,其中包含负光阻性材料 ; (d)将所述第一隔离层曝光、显影、及硬烤; (e)于所述第一隔离层上形成第二光阻,其中所述第 二光阻包含一正光阻及第二染料; (f)将所述第二光阻之部分区域曝光,并进行显影, 以移除曝光后之所述第二光阻部分区域; (g)于表面涂布第二隔离层,其中包含负光阻性材料 ; (h)将所述第二隔离层曝光、显影、及硬烤; (i)于所述第二隔离层上形成第三光阻,其中所述第 三光阻包含一正光阻及第三染料; (j)将所述第三光阻之部分区域曝光,并进行显影, 以移除曝光后之所述第三光阻部分区域; (k)于表面涂布第三隔离层,其中包含负光阻性材料 ; (l)将所述第三隔离层曝光、显影、及硬烤。10.如 申请专利范围第9项所述彩色滤光镜的制造方法, 其中所述第一、第二及第三隔离层所含有之负光 阻性材料系具有大于90%的光穿透率(trans-mittance)。 11.如申请专利范围第9项所述彩色滤光镜的制造方 法,其中所述固态感测器元件系为电荷耦含装置( charge coupled device;CCD)。12.如申请专利范围第9项所 述彩色滤光镜的制造方法,其中所述固态感测器元 件系为互补式金氧半导体影像器(complementary metal oxide semiconductor imager;CMOS imager)。13.一种彩色滤光 镜(color filter)的制造方法,系包括: (a)提供一具有液晶显示装置(liquid crystal display device)的基板,于所述基板上形成第一光阻,其中所 述第一光阻包含一正光阻及第一染料(dye); (b)将所述第一光阻之部分区域曝光(expose),并进行 显影(develop),以移除曝光后之所述第一光阻部分区 域; (c)于表面涂布第一隔离层,其中包含负光阻性材料 ; (d)将所述第一隔离层曝光、显影、及硬烤; (e)于所述第一隔离层上形成第二光阻,其中所述第 二光阻包含一正光阻及第二染料; (f)将所述第二光阻之部分区域曝光,并进行显影, 以移除曝光后之所述第二光阻部分区域; (g)于表面涂布第二隔离层,其中包含负光阻性材料 ; (h)将所述第二隔离层曝光、显影、及硬烤; (i)于所述第二隔离层上形成第三光阻,其中所述第 三光阻包含一正光阻及第三染料; (j)将所述第三光阻之部分区域曝光,并进行显影, 以移除曝光后之所述第三光阻部分区域; (k)于表面涂布第三隔离层,其中包含负光阻性材料 ; (l)将所述第三隔离层曝光、显影、及硬烤。14.如 申请专利范围第13项所述彩色滤光镜的制造方法, 其中所述第一、第二及第三隔离层所含有之负光 阻性材料系具有大于90%的光穿透率(trans-mittance)。 图式简单说明: 第一图是以R/G/B三原色为例之彩色滤光镜的各式 排列配置图。 第二图是习知技艺中正光阻彩色滤光镜之制程流 程图。 第三图是本发明中正光阻彩色滤光镜之制程流程 图。 第四图A-D是本发明实施例中,沿第一图(A)中AA'方向 之正光阻彩色滤光镜之制程剖面示意图。 第五图A-C是本发明实施例中,沿第一图(A)中CC'方向 之正光阻彩色滤光镜之制程剖面示意图。 |
