| 发明名称 | 可光催化净化空气及杀菌的有机基底双层膜及其制法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及半导体光催化剂技术领域,特别涉及可光催化净化空气及杀菌的有机基底双层膜及其制法。这种有机基底双层膜特征在于在有机物基底上涂抹惰性氧化物涂层,再在惰性氧化物涂层上涂抹半导体光催化剂涂层。其中惰性氧化物涂层厚度在0.1～100微米,半导体光催化剂涂层厚度为0.1～100微米。其制法是用旋转涂膜法先制备有机物基底表面惰性氧化物涂层,再在上面用旋转涂膜法涂覆半导体涂层即制得本发明的有机基底双层膜。这种膜能够有效降解表面有机污垢,并对有机物基底没有任何破坏作用。 | ||
| 申请公布号 | CN1243029A | 申请公布日期 | 2000.02.02 |
| 申请号 | CN98103510.8 | 申请日期 | 1998.07.29 |
| 申请人 | 中国科学院感光化学研究所 | 发明人 | 赵进才;陈锋 |
| 分类号 | B01D63/06 | 主分类号 | B01D63/06 |
| 代理机构 | 上海华东专利事务所 | 代理人 | 高存秀 |
| 主权项 | 1.一种可光催化净化空气及杀菌的有机基底双层膜，其特征在于在有机物基底上涂抹惰性氧化物涂层，再在惰性氧化物涂层上涂抹半导体光催化剂涂层；其中惰性氧化物涂层厚度为0.1～100微米，半导体光催化剂涂层厚度为0.1～100微米。 | ||
| 地址 | 100101北京市朝阳区大屯路甲3号 | ||