发明名称 γ射线辐照制备金属镍薄膜的方法
摘要 本发明制备金属镍薄膜的方法,是把衬底浸在含有一定浓度醋酸镍、异丙醇、醋酸铵和氨水的水溶液中,置于γ射线源中辐照3×10<SUP>4</SUP>-5×10<SUP>5</SUP>Gy,能获得膜厚可控的镜面状金属镍薄膜,该方法可在常温常压下操作,工艺简单易行,无论是导电或不导电的衬底,均可一步完成金属镍薄膜的生长。
申请公布号 CN1049019C 申请公布日期 2000.02.02
申请号 CN96101060.6 申请日期 1996.01.30
申请人 中国科学技术大学 发明人 陈祖耀;陈旻;朱玉瑞;钱逸泰
分类号 C23C18/14 主分类号 C23C18/14
代理机构 中国科学技术大学专利事务所 代理人 汪祥虬
主权项 1.一种金属镍薄膜的制备方法,其特征在于将衬底置于含有镍离子的水溶液中,以γ射线辐照3×104-5×105Gy,所述含镍离子的水溶液中含有摩尔/升的下列物质:醋酸镍 0.01-0.10异丙醇 1-2醋酸铵 0.05-0.10氨 水 0.5-1.0。
地址 230026安徽省合肥市金寨路96号
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